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工業清洗劑

晶圓清洗劑

PL31晶圓清洗劑

類別:晶圓清洗劑

簡介: 本品專用于晶圓芯片、高端光學制品的清洗,具有極強的清洗力,能快速有效祛除產品表面可移動不可移動殘留物,如:氧化硅拋光液殘留、光刻膠殘留、粉塵顆粒物、油污等;清洗效果穩定,不傷鍍膜層。

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本品專用于晶圓芯片、高端光學制品的清洗,具有極強的清洗力,能快速有效祛除產品表面可移動不可移動殘留物,如:氧化硅拋光液殘留、光刻膠殘留、粉塵顆粒物、油污等;清洗效果穩定,不傷鍍膜層。


用途特性            

? 高性價比,能整體有效的降低清洗和維護成本;

? 對人無毒、無閃點,使用安全得到保障;

? 高效:在設定的工作條件下,510分鐘即可將污垢洗凈;

? 無腐蝕:對材料相容性好。

  

主要技術指標         

外觀(原液)          

無色透明液體

比重             

1.06±0.01

PH            

1011

氣味             

 

 

使用方法

建議原液使用,可適當稀釋使用,稀釋比例不超過20倍;

溫度:50-60     時間:5-10分鐘

注意:清洗設備建議選擇高頻超聲波清洗,避免因頻率過高震傷產品。


 注意事項  

                 

如不慎進入眼中應立即用清水沖洗,人工清洗時,請配戴防護手套;    

儲存于陰涼干燥處,避免陽光直射

包裝規格

25KG/桶

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